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[电子基础知识] 半导体分立器件的型号命名方法

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发表于 2010-10-25 23:14:47 | 显示全部楼层 |阅读模式
半导体分立器件的型号命名方法:

      1 国标命名方法:(引自GB249-74 ,1975)

      半导体器件有5部分组成

      第一部分:用数字表示器件的电极数目。2,二极管。

      3,三极管

      第二部分:用汉语拼音表示器件的材料极性。

      二极管:A,N锗材料,B,P锗材料,C,N硅材料,D,P硅材料,三极管:A,PNP锗材料,B,NPN锗材料,C,PNP硅材料,D,NPN硅材料,E,化合物材料。


      第三部分:用汉语拼音表示器件的类型。

      P普通管,V
      微波管,W稳压管,C参量管,Z整流管,L整流堆,S隧道管,N阻尼管,U光电管,X低频小功率,G高频小功率,D低频大功率,A高频大功率,T体效应管,B雪崩管,J
      阶跃恢复管,CS场效应管,BT半导体特殊器件,FH复合管,PIN,PIN管,JG激光管。

      第四部分:用数字表示器件的序号。 第五部分:用汉语拼音表示规格号。
 楼主| 发表于 2010-10-25 23:15:41 | 显示全部楼层
美国半导体器件的命名方法:

      美国半导体器件的命名比较混乱,这里介绍的是美国电子工业协会(EIA)规定的晶体管分立器件的命名法。

      第一部分:用符号表示用途和类别,JAN,或J军用。无,民用。

      第二部分:用数字表示PN结数,1,二极管,2 ,三极管。。。。

      第三部分: 美国电子工业协会(EIA)注册标志,N

      第四部分: 美国电子工业协会(EIA)登记序号。

      第五部分: 同型号的不同档别,A,B,C…



      美国半导体器件的命名特点:

      1 除前缀以外, 凡以1N,2N,3N开头的器件, 大多为美国制造,或美国专利。

      2 第四部分只是登记序号,无其他意义,所以相邻号参数也许相差很大。

      3,不同厂家生产性能一致的器件使用同一登记号,故可以通用。
 楼主| 发表于 2010-10-25 23:16:53 | 显示全部楼层
欧洲半导体分立器件的型号命名方法:

      目前欧洲各国没有明确统一的型号命名方法,但大部分欧洲共同体的国家一般使用国际电子联合会的标准版导体分立器件的型号命名方法。

      第一部分:用字母表示材料:A锗材料,B硅材料, C砷化钾,D锑化铟,R复合材料。

      第二部分:用字母表示类型。

      A检波开关和混频二极管,B
      变容二极管,C低频小功率三极管,D低频大功率三极管,E隧道二极管,F高频小功率三极管,H磁敏二极管,K开放磁路霍尔器件,M密封磁路霍尔器件,P光敏器件,Q发光器件,R小功率可控硅,T大功率可控硅,U大功率开关管,X倍增二极管,
      Y整流二极管,Z齐纳二极管,L高频大功率管,S小功率开关管

      第三部分:通用半导体器件的登记序号。

      第四部分:同一型号器件的分档标志。
 楼主| 发表于 2010-10-25 23:18:29 | 显示全部楼层
日本半导体器件的命名方法:

      第一部分:用数字表示器件的电极数, 0,光电管,1 二极管,2 三极管。。。

      第二部分:S:已在日本电子工业协会(JEIA)注册的标志。

      第三部分:用字母表示材料的类型:A,PNP高频,B,PNP低频,C,NPN高频,D,NPN低频,F, P控制极可控硅,G, N控制极可控硅,H, N
      基极单结晶体管,J, P沟道场效应管,K, N沟道场效应管,M,双向可控硅。

      第四部分:器件在JEIA的登记号,性能相同,但不同厂家的产品可用同号。

      第五部分:A,B,C,表示该型号是原型号的改进型号。

      除以上基本符号外,有时还附有一些后缀,如:

      M:表示器件符合日本海上自卫队参谋部有关标准。

      N,(外加圈)符合日本广播协会标准。H,(外加圈)日立通信用, K,(外加圈)日立通信用,Z,(外加圈)松下通信用G,(外加圈)
      东芝通信用S,(外加圈)三洋通信用。后缀的第二个字母通常表示HEF分档标志。

      日本半导体器件的命名方法:

      第一部分:用数字表示器件的电极数, 0,光电管,1 二极管,2 三极管。。。

      第二部分:S:已在日本电子工业协会(JEIA)注册的标志。

      第三部分:用字母表示材料的类型:A,PNP高频,B,PNP低频,C,NPN高频,D,NPN低频,F, P控制极可控硅,G, N控制极可控硅,H, N
      基极单结晶体管,J, P沟道场效应管,K, N沟道场效应管,M,双向可控硅。

      第四部分:器件在JEIA的登记号,性能相同,但不同厂家的产品可用同号。

      第五部分:A,B,C,表示该型号是原型号的改进型号。

      除以上基本符号外,有时还附有一些后缀,如:

      M:表示器件符合日本海上自卫队参谋部有关标准。

      N,(外加圈)符合日本广播协会标准。H,(外加圈)日立通信用, K,(外加圈)日立通信用,Z,(外加圈)松下通信用G,(外加圈)
      东芝通信用S,(外加圈)三洋通信用。后缀的第二个字母通常表示HEF分档标志。
 楼主| 发表于 2010-10-25 23:19:27 | 显示全部楼层
晶体管的代换基本原则:

      类型相同:包含以下三点。

      1材料相同,即硅管代换硅管,锗管代换锗管。

      2 极性相同,即NPN代换NPN 管。

      3种类相同,即一般三极管代换一般三极管。场效应管代换场效应管。

      特性相近:代换管的主要参数与原管的参数相近,一般用途的三极管,只要以下主要参数相近即可代换,PCM,ICM,VCEO,F0.在以上参数中,均要考虑代换管的参数大于或者等于原管的参数。对于特殊用途的三极管,还要考虑相应的其他参数,如:低噪声三极管等。


      外形相似:小功率管外形均相似,只要明确了各个电极的极性,即可代换,

      大功率管外形差异较大,最好选选择与原封装相同的管子,以满足和接近原来的散热条件。
发表于 2012-3-21 17:14:07 | 显示全部楼层
W稳压管,C参量管,Z整流管,L整流堆

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